2023-04-21
石英玻璃在半导体工业设备上，使用温度经常在1000℃到1300℃之高温状态，在此种状态下由于附著不纯物导致失透现象发生，失透之部分为石英之晶质化，晶质化之变态点为275℃，当石英玻璃自高温降自此变态温度时，表面失透之晶质化部分与石英玻璃本身高温之α相与低温之β相间膨胀系数不同在急速冷却下产生不透明之剥离状更严重时会造成破裂现象产生。
2023-04-21
石英玻璃在半导体工业设备上，使用温度经常在1000℃到1300℃之高温状态，在此种状态下由于附著不纯物导致失透现象发生，失透之部分为石英之晶质化，晶质化之变态点为275℃，当石英玻璃自高温降自此变态温度时，表面失透之晶质化部分与石英玻璃本身高温之α相与低温之β相间膨胀系数不同在急速冷却下产生不透明之剥离状更严重时会造成破裂现象产生。